CNR Institutional Research Information System

Low-temperature growth of HfO2 dielectric layers by Plasma Assisted MOCVD

Losurdo M;Giangregorio MM;Bruno G;Barreca D;
2003
2003
Istituto di Scienze e Tecnologie Molecolari - ISTM - Sede Milano
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
04.03 Poster in Atti di convegno
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