CNR Institutional Research Information System

Low-temperature growth of HfO2 dielectric layers by Plasma Assisted MOCVD

Losurdo M;Giangregorio MM;Bruno G;Barreca D;
2003
2003
Istituto di Scienze e Tecnologie Molecolari - ISTM - Sede Milano
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
SAMIC
12th Meeting on Syntheses and Methodologies in Inorganic Chemistry
12th Meeting on Syntheses and Methodologies in Inorganic Chemistry
Brixen (BZ)
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
Losurdo, M; Giangregorio, Mm; Luchena, M; Capezzuto, P; Bruno, G; Barreca, D; Tondello, E
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
7
04.03 Poster in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/88289
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact