CNR Institutional Research Information System

Analysis of the Electrical Activation of P+ Implanted Layers as a Function of the Heating Rate of the Annealing Process

Canino M;Giannazzo F;Roccaforte F;Poggi A;Solmi S;Nipoti R
2006
2006
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
SiC
P implantation
heating rate
activation
surface roughness
04.03 Poster in Atti di convegno
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